準(zhǔn)周期摩爾波紋及其對扭曲雙層石墨烯電子性能的影響已被深入研究。在小扭轉(zhuǎn)角θ時，由于原子的重構(gòu)，莫爾超晶格形成了一個狹窄的疇壁網(wǎng)絡(luò)，將微米級的AB和BA堆積區(qū)域分隔開。我們通過使用掃描探針光電流成像來解決出現(xiàn)在這些疇壁的塞貝克系數(shù)的納米變化。當(dāng)六方氮化硼襯底是光學(xué)雙曲線時，在中紅外頻率范圍內(nèi)，所觀察到的特征得到增強(qiáng)。該結(jié)果說明了納米光電流技術(shù)在二維材料中探測納米級電子不均勻性的能力。
Fig. 1 最小扭曲雙層石墨烯中的光電流。
Fig. 2 TBG中光電流的熱電起源。
Fig. 3 hBN Reststrahlen帶中的疇壁光電流模式。
Fig. 4 Reststrahlen帶內(nèi)外的局部電場和溫度。
相關(guān)研究成果于2021年由美國紐約哥倫比亞大學(xué)D. Halbertal課題組，發(fā)表在Nature Communications（https://doi.org/10.1038/s41467-021-21792-2）上。原文：Hyperbolic enhancement of photocurrent patterns in minimally twisted bilayer graphene。
轉(zhuǎn)自《石墨烯雜志》公眾號
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